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虹口煙氣脫硝系統(tǒng)

虹口選擇性催化還原法脫硝SNCR

選擇性非催化還原(SNCR)脫硝工藝是將含有 NHx基的還原劑(如氨氣、 氨水或者尿素等)噴入爐膛溫度為900℃-1100℃的區(qū)域,還原劑通過安裝在屏式過熱器區(qū)域的噴槍噴入,該還原劑迅速熱分解成NH3和其它副產物,隨后 NH3與煙氣中的 NOx進行 SNCR 反應而生成N2和H2O。

工作原理

      選擇性非催化還原(SNCR)脫硝工藝是將含有 NHx基的還原劑(如氨氣、 氨水或者尿素等)噴入爐膛溫度為900℃-1100℃的區(qū)域,還原劑通過安裝在屏式過熱器區(qū)域的噴槍噴入,該還原劑迅速熱分解成NH3和其它副產物,隨后 NH3與煙氣中的 NOx進行 SNCR 反應而生成N2和H2O。

技術特點

      脫硝效率可達40%以上;氨逃逸率小于5ppm;系統(tǒng)簡單,投資省;無催化劑,運行費用?。徽嫉孛娣e小。


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濾袋/袋籠:409329804

除塵器/設備:121027739

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